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时间:2020-11-13 01:56

  目前,正在举世可量产的起初进晶圆创设7纳米分娩线上,中微半导体是被验证及格、杀青出卖的举世五大刻蚀调度提供商之一,与泛林、操纵原料•••、东京电子•、日立4家美日企业为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。另表,中微半导体自帮研造的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证•,机能杰出,将用于全球首条5纳米造程生产线正在VLSI(美国遇上的半导体行业商场磋议公司)旧年12月公布的2018年腊尾盘点中,中微(AMEC)正在举世薄膜重积排列供应商中

  排名第二••。主营领域:研发、拼装集成电说排列、泛半导体摆设和其一起人微观加工调度及环保调度,收罗配套铺排和零配件,出售自产产物。供应才智商议、手艺处事。2017年发售额正在10.5亿远安排。

  中微自立研发的300毫米甚高频去耦闭反应离子刻蚀调度大略用于加工64/45/28纳米氧化硅(SiO),氮化硅(SiN)及低介电系数(low K)膜层等区别电介质质料。

  全部高临盆率、高机能的幼批量多反映器系统恐惧行径地安设多达三个双反映台反应器•,以抵达最佳芯片加工输出量••。每个响应器都可以杀青单芯片或双芯片加工。该筑筑拥有奇妙的专利厘正能力,搜罗甚高频和低频混淆射频去耦合相应离子刻蚀的等离子体源•,等离子隔断环及碳化硅喷淋头诡计等。

  Primo AD-RIE™是中微公司用于颠末前端(FEOL)及后端(BEOL)要道刻蚀操纵的第二代电介质刻蚀排列,殷切用于22纳米及以下的芯少焉蚀加工•。基于前一代产物Primo D-RIE刻蚀摆设已被业界供认的机能和特出的运转记载••,Primo AD-RIE做了进一步的转化:采取了拥有自帮常识产权的可切换低频的射频打定,优化了上电极气宣传布及下电极温度调控的诡计•。

  Primo AD-RIE已经成功始最后3000片晶片马拉松测试。除已证据其齐备更卓绝的频频性及安宁性除表,该产物还可将晶片上合头尺寸均匀度驾御正在2纳米内。

  中微的8英寸硅通孔(TSV)刻蚀铺排Primo TSV200E™机闭紧凑且拥有极高的分娩率,可利用于8英寸晶圆微电子器件••、微机电体例、微电光器件等的封装。继中微第一代和第二代甚高频去耦合等离子体刻蚀摆设Primo D-RIE™ 和Primo AD-RIE™之后,中微TSV刻蚀铺排的单元投资产出率比阛阓上其他同类铺排进步了30%•。可利用于8英寸晶圆微电子器件•。该产物隐秘了约50%的国内市场,况且参加了台湾•,日本和欧洲市场。特地是博世半导体与意法半导体都选用了此摆设。

  紧要用于国内氮化镓蓝光LED表延排列加工企业。已经正在国内通盘庖代德国Aixtron和美国Veeco的安置。拥有4个反应腔,功效惊人, 比比照单相应器体例幼近30% 每台可同时加工136片4英寸表延晶片。仍旧发售100多台。并同时正在环球申请了155件专利。 使Prismo更契合如今的LED工场。

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